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  • TMS-2000

晶圆厚度测量系统

TMS-2000以非接触方式测量晶圆的的厚度分布,可以测量精度为1nm的平整度。 当在涉及极端温度变化和振动的不稳定环境中使用时,传统的晶圆厚度映射技术难以解决精度问题,而TMS-2000具有高的环境稳定性。由于其高速测量能力和紧凑的尺寸,TMS-2000可用于涉及在线检测的各种工业领域。

TMS 2000

特征

TMS-2000以非接触方式测量晶圆的的厚度分布,可以测量精度为1nm的平整度。 当在涉及极端温度变化和振动的不稳定环境中使用时,传统的晶圆厚度映射技术难以解决精度问题,而TMS-2000具有高的环境稳定性。由于其高速测量能力和紧凑的尺寸,TMS-2000可用于涉及在线检测的各种工业领域。

特点

1. 高精度

基于干涉探测技术的高精度测量(1nm重复性)

2. 支持各种测量参数

分析整片平整度(GFLR, GFLD, GBIR),局部平整度(SFQR, SFQD, SBIR)、边缘平整度(ESFQR)

3. 高耐环境性

高耐环境性*专利申请中

4. 紧凑的尺寸

体积小、省空間

5. 高速

螺旋扫描(高速, 高密度)

应用

GUI image
Wafer Thickness Measurement

TMS-2000配有独特的数据采集软件,可实现一致的测量、分析和数据输出。
工作台可容纳12英寸的晶圆,完成设置后自动定位缺口位置和晶圆中心,有效地自动加载坐标数据。

Site
Edge & Site Analysis

除了厚度测量和线轮廓分析外,还可以统计分析符合SEMI标准的平整度参数,并可以以任意形式显示和输出数据。另外,可以解析指定的2片晶圆的厚度差异,便于监测抛光过程。

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影片

Introduction of TMS-2000

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